873 仪器综合考试大纲（2020 版）

一、考试组合 

本科目考试有以下三个选项：A——数字电子技术部分占 75 分, B——自动控制原理部

分占75 分，C——工程光学部分占 75 分。

报考考生可在A、B、C 三个选项中任选两项，共150 分。二、数字电子技术部分考试大纲

主要内容及基本要求

1. 逻辑代数基础

Ø 掌握逻辑代数基本逻辑运算和复合逻辑运算及其符号表示，逻辑函数的各种表示方法及相互转换。

Ø 逻辑函数化简法：公式法和卡诺图法，具有无关项的卡诺图法化简，多输出逻辑函数的卡诺图化简。

2. 门电路

Ø TTL 逻辑门的电路结构、工作原理、电压传输特性、输入端噪声容限及抗干扰能力、输入端负载特性、输入和输出特性。

Ø OC 门、三态门的性能及应用。

Ø CMOS 反相器的电压传输特性、电流传输特性、输入端噪声容限，CMOS 传输门的应用。

3. 组合逻辑电路

Ø 组合逻辑电路分析与设计方法。

Ø 编码器、译码器、数据选择器、加法器、数值比较器的性能及应用。

4. 触发器

Ø RS 触发器、JK 触发器、D 触发器、T 触发器的功能、特性。

Ø 认识SR 锁存器、电平触发的触发器、脉冲触发的触发器、边沿触发器的图形符号，会画由这些触发器所构成电路的工作波形图。

5. 时序逻辑电路

Ø 掌握时序逻辑电路分析方法：用逻辑门电路构成的同步时序电路和异步时序电路的分析过程，自启动判断。

Ø 掌握寄存器和计数器的工作原理和使用方法。

Ø 掌握同步时序电路的分析与设计方法。

6. 脉冲波形的产生和整形

Ø 掌握施密特触发器、单稳态触发器、多谐振荡器的特点与应用。

Ø 掌握利用555 电路构成施密特触发器、单稳态触发器、多谐振荡器的方法，会画施密特触发器的电压传输特性图、单稳态触发器和多谐振荡器的电压波形图，会计算电路输出脉冲周期和占空比。

7. 半导体存储器

Ø 了解存储器存储容量的计算，掌握使用ROM 设计逻辑电路的方法。

Ø 掌握ROM 和RAM 的地址扩展和位扩展方法。

8. 模数-数模转换

Ø 掌握T 型、倒T 型D/A 转换器原理及输出形式。会计算D/A 转换器的分辨率，掌

握影响D/A 转换精度的因素。

Ø 掌握并联比较型A/D 转换器、反馈比较型A/D 转换器和双积分型A/D 转换器的转换过程，会画A/D 转换过程的波形图，并根据转换过程逐步得到数字量。掌握这几种类型A/D 转换器的转换精度、转换速度的特点。

三、自动控制原理部分考试大纲复习内容及基本要求 

1．自动控制的一般概念

主要内容：自动控制的基本概念；基本控制方式：开环、闭环（反馈）控制；自动控制的性能要求：快、稳、准。 

基本要求：掌握反馈控制原理与动态过程的概念；由给定物理系统构建原理方框图。2．数学模型

主要内容：传递函数及动态结构图；典型环节的传递函数；结构图的等效变换、梅森公式。基本要求：掌握典型环节的传递函数；闭环系统动态结构图的绘制；熟练结构图的等效变换。3．时域分析法 

主要内容：典型响应及性能指标、一、二阶系统的分析与计算。系统稳定性的分析与计算：劳斯、赫尔维茨判据。稳态误差的计算。

基本要求：掌握典型响应（以一、二系统的阶跃响应为主）及性能指标计算；系统参数对响应的影响；熟练应用劳斯、古尔维茨判据；系统稳态误差、终值定理的使用条件。 

4．根轨迹法

主要内容：根轨迹的概念与根轨迹方程；根轨迹的绘制法则；零、极点分布与阶跃响应性能的关系。 

基本要求：掌握根轨迹法则，熟练根轨迹的绘制；利用根轨迹估算阶跃响应的性能指标。5．频率响应法

主要内容：线性系统的频率响应；典型环节的频率响应及开环频率响应；Nyquist 稳定判据和对数频率稳定判据；稳定裕度及计算；闭环幅频与阶跃响应的关系，峰值及频宽的概念；开环频率响应与阶跃响应的关系，三频段（低频段，中频段和高频段）的分析方法。 

基本要求：掌握典型环节和开环系统频率响应曲线(Nyquist 曲线和对数幅频、相频曲线)的绘制；系统稳定性判据（Nyquist 判据和对数判据）；熟练相稳定裕度和模稳定裕度的计算；明确最小相位和非最小相位系统的差别，掌握截止频率和带宽的概念。

6. 线性系统的校正方法 

主要内容：系统设计问题概述；串联校正特性及作用：超前、滞后及PID；校正设计的频率法及根轨迹法；反馈校正的作用及计算要点。 

基本要求：掌握校正装置的作用及频率法的应用；掌握以串联校正为主，反馈校正为辅的设计方法；掌握以频率法为主，根轨迹法为辅的计算方法。 

7. 线性连续系统的状态空间分析方法 

主要内容：状态方程的列写；状态方程的解（矩阵指数及其性质）；系统等价变换；状态方程与传递函数的关系；系统的可控性、可观性及其判据；状态反馈及极点配置。 

基本要求：对于单输入单输出线性定常连续系统，熟练运用系统可控性、可观性判据，掌握状态反馈及极点配置方法。

四、工程光学部分考试大纲

复习内容及基本要求

1、应用光学的基本定律与成像概念

主要内容：掌握应用光学的基本定律，成像的基本概念和完善成像条件，光路计算与近轴光学系统，球面光学成像系统。

基本要求：掌握应用光学的四个基本定律，近轴光线的光路计算及球面光学成像系统的物象位置关系。

2、理想光学系统

主要内容：掌握理想光学系统与共线成像理论，理想光学系统的基点与基面，理想光学系统的物像关系，理想光学系统的放大率，理想光学系统的组合，透镜。

基本要求：掌握实际光学系统的基点位置和焦距计算，各类透镜的光学性质，图解法求像、解析法求像，理想光学系统的组合及放大率。

3、平面与平面系统

主要内容：掌握平面镜成像、平行平板、反射棱镜、折射棱镜与光楔。

基本要求：掌握平面镜、平行平板、反射棱镜、折射棱镜与光楔的成像特性。

4、光学系统的光束限制

主要内容：掌握照相系统和光阑，望远镜系统中成像系统的光束的选择，显微镜系统中的光束限制与分析。

基本要求：掌握与成像光束位置和大小相关的术语概念，以及照相系统、望远镜系统、显微镜系统中的光束限制与分析。

5、典型光学系统与现代光学系统

主要内容：掌握眼睛及其光学系统的特性，对放大镜、显微镜系统、望远镜系统、目镜、摄影系统、投影系统的物镜和目镜的结构型式及其主要光学参数深入理解。

基本要求：掌握眼睛、放大镜、显微镜系统、望远镜系统、摄影系统的成像原理及其主要光学参数。